本文件适用于真空熔铸法、粉末冶金法制得的高纯金属钇靶材，主要用于电子信息、涂层和显示等领域。
XB/T 524-2023 高纯金属钇靶材
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XB/T 524-2023标准状态
- 发布于：2023-12-20
- 实施于：2024-07-01
- *非实时更新以实际为准
本文件适用于真空熔铸法、粉末冶金法制得的高纯金属钇靶材，主要用于电子信息、涂层和显示等领域。
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