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T/STIC 110080-2022 化学气相沉积法(CVD)培育钻石裸钻

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化学气相沉积法(CVD)培育钻石裸钻简介

内容简要 本文件规定了化学气相沉积法(以下简称CVD)培育钻石裸钻的产品特性、技术要求、检验方法、检验规则、包装与标志等方面的内容。本文件适用于颜色级别为D~F色,净度级别为FL~VS1…

T/STIC 110080-2022 化学气相沉积法(CVD)培育钻石裸钻

主要起草人:龚闯、满卫东、胡庆坡、韩初、杨春梅、杨武、骆海燕、高春燕、郑学东。

起草单位:上海征世科技股份有限公司、上海铂世光半导体科技有限公司、上海钲戴梦商贸有限公司、武汉工程大学材料科学与工程学院、方圆标志认证集团上海有限公司、上海市检验检测认证协会。

适用范围:

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