内容简要 本标准规定了用电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）测定硅外延用四氯化硅中硼、钠、镁、铝、钾、钙、磷、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、镓、砷、铅元素含量的方法。本标准适用于…
T/CNIA 0061-2020 硅外延用四氯化硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
主要起草人：严大洲、万烨、赵雄、楚东旭、刘凤华、蔡延国、邱艳梅、赵娟龙
起草单位：洛阳中硅高科技有限公司、亚洲硅业（青海）股份有限公司、新特能源股份有限公司、新疆协鑫新能源材料科技有限公司
T/CNIA 0061-2020 硅外延用四氯化硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
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T/CNIA 0061-2020标准状态
- 发布于：2020-05-27
- 实施于：2020-08-01
- *非实时更新以实际为准